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真空气氛炉

真空气氛炉

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真空气氛烧结炉

作者:熔科  浏览量:575  发布日期:2021-12-12 09:12:29

用途:

真空气氛烧结炉主要应用于金属器件、陶瓷材料、粉体材料等工件在真空及气氛保护环境下烧结等工艺的生产。一键启动自动完成工艺生产,多条工艺曲线的设定,方便调取使用。

特点:

采用双层壳体结构和PID30段程序控温系统,移相发、可控硅控制,炉膛采用软质和硬质碳纤维材料,能快速升降温。采用外壳整体密封,盖板和炉门密封均采用高温硅胶0型圈,炉门处装有水冷系统。同时设有冷阱及机组,该炉具有体积小、温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、价格优惠、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做真空烧结用的理想产品。

参数:

1、形式:立式/卧式

2、加热方式:电阻丝/硅碳棒/硅钼棒

3、工作室材料:不锈钢

4、工作室结构:圆形

5、工作室尺寸:根据生产工艺设计

6、真空系统配置:根据使用要求配置

7、使用气氛:氮气、氢气

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